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DB/WB缺陷检测设备

产品信息

设备参数:

项目 参数
型号 V1000 V2000
应用 半导体先进封装芯片固晶及金线/铝线键合工艺后的2D自动光学检测 半导体先进封装芯片固晶及金线/铝线键合工艺后的3D自动光学检测
性能特点 过杀≤500 PPM
漏检≤100 PPM(非致命性缺陷)
MTBA≥2H
MTBF≥168H
GR&R<10%
UPH≥35-90条/小时
【约64条/小时(以PDFN5*6计算,实际以产品为准)】
最小封装尺寸:兼容所有封装类型
最大引线框架尺寸:100mm × 300mm
换型时间 ≤30min ≤1H
工艺流程 料盒上料;物料推送;视觉定位,2D AOI检测;MARK;不良品分选,良品下料 料盒上料;物料推送;视觉定位,2D AOI检测;3D AOI检测;MARK;不良品分选,良品下料
光学分辨率 2D 精度:2.5μm/ 像素【可配更高】
视线范围(FOV):12.8mm*12.8mm
3D / 3D 检测:
XY 平面分辨率:3.6μm/pixel
Z 方向精度:±10μm
视线范围(FOV):5.6mm*4mm
检验缺陷 固晶检测、一二焊点检测、焊线检测、胶体/焊锡检测、框架/引脚检测
芯片:芯片偏移、崩边崩脚、芯片划伤、旋转、错芯片、无芯片
焊点:球大小、长宽、偏移、脱落、球偏心等
银胶:银胶溢出、缺失等
焊线:错焊、 多焊、 少线、 断线、 塌线、 线弯曲、 线弧高度异常、线长、线宽、线距、线高等
引脚、框架:刮伤、异物脏污、破损等
框架范围 100mm~300mm (L) *35mm~100mm (W)
适用Magazine 110mm~310mm (L) *40mm~120mm (W) *100mm~180mm(H)
上料 / 下料 料盒上下料(基板条或金属载体)
轨道调节 自动手动结合,有真空冶具时需要手动更换真空支撑冶具
工作特点 1、2D+3D+Mark(根据需求搭配),3D采用光场成像技术捕获三维数据,满足多层金线的成像与检测;
2、大理石平台+高精度光栅尺+高速直线电机,保证运动精度的同时提高效率;
3、支持框架Maping图标;配备SPC + Repair工具辅以数据分析和修复;
4、静电消除离子风机;
5、配备HEPA过滤器;
6、QR码(数据矩阵)读取器(选配);
7、墨点/镭雕Mark(选配);
8、支持AI嵌入,可用于对比度比较小的金线焊点分割和复判;
操作系统 JRS提供的Windows 10彩色触摸屏API
语言:英文和简体中文,其他语言可定制
设施要求 工作电压:AC 220±10%V,50Hz
气压要求:0.6~0.8Mpa

*以上参数以实际产品为准

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